Optimisation des couches tampon par ALD pour des réseaux de nanotubes de carbone alignés verticalement haute performance
Résumé
Les réseaux de nanotubes de carbone alignés verticalement (VACNTs) sont essentiels pour les matériaux d'interface thermique (TIM) de prochaine génération. Alors que le SiO2 thermiquement oxydé a traditionnellement servi de couche tampon, le dépôt de couches atomiques (ALD) offre une voie pour fabriquer des oxydes denses et sans trous d'épingle tels que Al2O3, TiO2 et ZnO avant le dépôt du catalyseur. Notre étude montre que la croissance des VACNTs est hautement sensible à la chimie de la couche tampon ; l'Al2O3 fournit les réseaux les plus épais, les plus denses et des tubes principalement à triple paroi. La température de dépôt exerce une influence prononcée — les taux de croissance culminent en dessous de 650 °C et déclinent ensuite, probablement en raison du mûrissement d'Ostwald et de la diffusion sous-surface du catalyseur. Finalement, nous avons intégré les VACNTs avec du graphène dans une matrice époxy pour créer un film composite qui démontre des conductivités thermiques verticale (≈1,25 W m−1 K−1) et transversale (≈2,50 W m−1 K−1) supérieures comparées à l'époxy nu. Ces résultats soulignent le rôle critique des couches tampon cultivées par ALD dans l'adaptation des propriétés des VACNTs pour des solutions de gestion thermique avancées.
Contexte
Les VACNTs possèdent une conductivité thermique axiale extraordinaire et sont de plus en plus employés dans l'emballage thermique. Les réseaux de haute qualité sont généralement cultivés par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sur des substrats pré-revêtus d'une couche tampon qui empêche la diffusion du catalyseur. Le dépôt de couches atomiques (ALD) fournit des oxydes conformes et sans défaut sur des géométries complexes, en faisant un choix attractif pour les couches tampon. Des travaux antérieurs ont démontré une meilleure nucléation et des diamètres de tubes uniformes lorsque l'Al2O3 ou le SiO2 cultivés par ALD sont utilisés comme tampons, pourtant l'influence mécanistique de différents oxydes sur la croissance des VACNTs reste incomplètement comprise.
Dans cette investigation, nous évaluons systématiquement l'Al2O3, le TiO2, le ZnO et le SiO2 thermiquement oxydé déposés par ALD comme couches tampon pour la synthèse de VACNTs. Nous développons également un film composite VACNT/graphène pour un transfert de chaleur amélioré, les VACNTs fournissant des voies verticales et le graphène assurant la conduction transversale.
Méthodes
Des films minces d'Al2O3, TiO2 et ZnO ont été déposés sur des tranches de Si par ALD à 200 °C en utilisant les précurseurs TMA, TDMAT et DEZ avec H2O comme oxydant, produisant des couches de 20 nm. Le SiO2 a été cultivé thermiquement à la même épaisseur. Un catalyseur Fe de 1 nm a ensuite été évaporé par faisceau d'électrons sur tous les substrats. La croissance des VACNTs a procédé dans un système CVD commercial (AIXRON Black Magic II) : le catalyseur a été recuit dans H2 (700 sccm) à 600 °C pendant 3 min ; par la suite, C2H2 (100 sccm) et H2 (700 sccm) ont été introduits, et la croissance a duré 30 min à des températures variant de 550 à 700 °C.
Pour le film composite, des catalyseurs Fe patternés (pas de 500 µm × 150 µm) ont été déposés sur Al2O3, les VACNTs ont été cultivés à 650 °C pendant 30 min, puis densifiés avec de la vapeur d'acétone pendant 20 s. Du graphène multicouche (10 % en poids) a été mélangé avec de la résine époxy, agent de durcissement et diluant, et les VACNTs ont été immergés et durcis à 120 °C (1 h) suivi de 150 °C (1 h). Le film résultant de 300 µm avait des pointes de VACNT saillantes sur les deux faces.
La morphologie a été examinée par MEB-FE (Merlin Compact) et MET (Tecnai G2 F20 S‑TWIN). Les spectres Raman (excitation 632,8 nm) ont évalué la structure des tubes. La diffusivité thermique et la chaleur spécifique ont été mesurées par flash laser (Netzach LFA 467) et calorimétrie différentielle à balayage (DSC, Mettler Toledo DSC1), permettant le calcul de la conductivité thermique via λ = α × Cp × ρ.
Résultats et discussion
Les images MEB en coupe transversale (Fig. 2) révèlent que les VACNTs sont cultivés avec succès sur Al2O3, TiO2 et SiO2, avec les réseaux les plus épais et les plus densément empilés sur Al2O3. En revanche, le ZnO produit une croissance VACNT négligeable, probablement en raison du mûrissement d'Ostwald accéléré et de la diffusion sous-surface du Fe.
L'analyse Raman (Fig. 4) montre les bandes D, G et G′ autour de 1360, 1580 et 2700 cm−1 respectivement. Les rapports ID/IG sont ≥1 pour tous les tampons, confirmant les tubes multi-parois ; les images MET (Fig. 5) confirment des VACNTs principalement à triple paroi sur Al2O3 et ≥quatre parois sur TiO2, ZnO et SiO2.
Le taux de croissance versus température (Fig. 6) montre une augmentation initiale suivie d'un déclin au-dessus de 650 °C pour tous les tampons, avec l'Al2O3 maintenant des taux plus élevés au-delà de 600 °C. Cela suggère une durée de vie du catalyseur plus longue sur Al2O3 et une énergie d'activation pour la nucléation plus faible comparée au SiO2.
Le film composite VACNT/graphène exhibe un transport thermique amélioré : conductivité verticale ≈1,25 W m−1 K−1 et conductivité transversale ≈2,50 W m−1 K−1 (Fig. 8). Ces valeurs dépassent de loin celles de la matrice époxy seule, confirmant que les VACNTs fournissent des voies de chaleur verticales efficaces tandis que le graphène augmente la conduction latérale.
Conclusions
L'Al2O3 cultivé par ALD émerge comme la couche tampon optimale pour la synthèse de VACNTs, délivrant les réseaux les plus épais, les plus denses et les mieux alignés grâce à une stabilité prolongée du catalyseur et des barrières de nucléation plus faibles. Le contrôle de la température est critique, avec des taux de croissance culminant près de 650 °C. L'incorporation de VACNTs sur du graphène dans une matrice époxy produit un composite avec des conductivités thermiques verticale et transversale markedly améliorées, soulignant le potentiel de cette architecture pour la gestion thermique haute performance.
Abréviations
- ALD:
Dépôt de couches atomiques
- C2H2:
Acétylène
- CVD:
Dépôt chimique en phase vapeur
- DEZ:
Diéthylzinc
- DSC:
Calorimètre différentiel à balayage
- EB:
Faisceau d'électrons
- FESEM:
Microscopie électronique à balayage à émission de champ
- H2:
Hydrogène
- LFA:
Analyseur thermique par flash laser
- RBMs:
Modes de respiration radiale
- TDMAT:
Tétrakis(diméthylamino)titane
- TEM:
Microscopie électronique en transmission
- TIMs:
Matériaux d'interface thermique
- TMA:
Triméthylaluminium
- VACNTs:
Nanotubes de carbone alignés verticalement
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