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Cible de tungstène de haute pureté pour puces à semi-conducteurs


Cible en tungstène haute pureté pour puces à semi-conducteurs

Le tungstène de haute pureté cible est un produit chimique typique du tungstène, un métal de transition. En raison de sa grande pureté (supérieure à 99,95 %), de sa densité élevée (19,35 g/cm3), de sa faible pression de vapeur, de son faible taux d'évaporation et de sa résistance aux températures élevées, il est souvent utilisé pour produire de l'oxyde de tungstène ultra-petit films.

Cible en tungstène haute pureté pour puces à semi-conducteurs

En ce qui concerne les puces semi-conductrices chaudes actuelles, le nouveau film d'oxyde de tungstène peut servir de barrière de diffusion, de couche adhésive et d'électrode de mémoire de circuit intégré à grande échelle, etc. ., ce qui peut améliorer considérablement la qualité globale des produits à puce.

Comment les cibles de tungstène de haute pureté produisent-elles des films d'oxyde de tungstène ? La pulvérisation cathodique est l'une des principales techniques de préparation de matériaux en couche mince d'oxyde de tungstène. Il bombarde les cibles de tungstène avec des ions à grande vitesse, et les atomes générés sont émis et accumulés à la surface du substrat pour former un revêtement. Le film d'oxyde de tungstène produit par la méthode de dépôt par pulvérisation cible présente les avantages d'une densité élevée, d'une bonne adhérence et d'une bonne résistance à la corrosion, il convient donc à une utilisation dans les puces semi-conductrices.

Comment faire la cible en tungstène ?

Tout d'abord, la poudre de tungstène est placé dans la gaine et évacué, et la poudre de tungstène dans la gaine est densifiée pour la première fois par le procédé de pressage isostatique à froid pour former la première ébauche cible de tungstène. Après le premier traitement de densification, la gaine est retirée et la première ébauche cible en tungstène est soumise à un second traitement de densification à l'aide d'un procédé de frittage par induction pour former une seconde ébauche cible en tungstène. Après le deuxième traitement de densification, la deuxième ébauche de cible en tungstène est soumise à un troisième traitement de densification à l'aide d'un processus de pressage isostatique à chaud pour former une cible en tungstène.

La cible de tungstène produite par le procédé présente les caractéristiques d'une densité élevée, d'une faible teneur en impuretés, d'une forte stabilité mécanique, d'une bonne uniformité de la structure interne et d'une grande taille de grain de cristal, ce qui peut mieux répondre aux exigences des procédés de pulvérisation modernes.

Conclusion 

Merci d'avoir lu notre article et nous espérons qu'il pourra vous aider à mieux comprendre la cible de tungstène de haute pureté. Si vous souhaitez en savoir plus sur le métal réfractaire tungstène, nous vous conseillons de visiter Métaux réfractaires avancés (ARM) pour plus d'informations.

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